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Cerium Oxide
CeO2
설명: CMP 공정별 적용가능한 5nm, 20nm, 40nm 크기 소재
특징: 입자의 분포가 균일하여 비표면적이 넓고, 결정성이 뛰어남
용도: CMP공정용 abraisive
#반도체 #세리아 #CMP #우수한평탄도 #고속연마성 #고품질
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